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光刻机镜头光学设计探秘. 第二部分EUV - 知乎照明系统暂不讨论，本文先介绍微缩投影光学系统-Projecting Lens 设计限制：波长：EUV的波长范围大致上为5-30nm，实际ASML EUV光刻机使用13.4-13.5nm。ASML官网-TWINSCAN NXE:3400B EUV光刻机使用13.5nm；材料：当波长达到EUV波段时，绝大多数材料都不具有良好的透射特性，DUV类似的透射光学系统将不再适用。
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XM512球面铣磨机使用说明书_百度文库光学铣磨机使用目录一. 产品用途二. 工作原理三. 主要技术参数四. 运输与安装五. 操作与维护六. 易损件七. 电气安装和维修八. 附图附图一: 附图二: 电气面板示意图电气原理图 XM512 球面铣磨机一、产品用途 XM512 球面铣磨机主要适用于
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